FLVP850/1100 立式连续型PVD镀膜设备
FLVP850/1100 Vertical in-line PVD Coater
- 设备特点
-
- 技术组合灵活，可适用金属、金属化合物、碳系涂层
- 腔室模块化设计，易拓展，产能配置大小可调
- 双面同时镀膜，提高涂层制备效率
- 设备内多重洁净防护，维护更换便捷
- 可拓展配套自动化，及智能工厂
- 技术指标
-
- 基材尺寸有效高度850/1100/1500mm
- 基材厚度≥0.1mm
- 年产能氢能双极板150-500万片
- 走速范围30-1000mm/min
