FLOURIS X201P 8英寸立式中温氧化炉
FLOURIS X201P 8 Inch Vertical Mid-Temp Oxidation Furnace
- 设备特点
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- 高精度温度场控制技术
- 先进的颗粒控制技术
- 图形化操作界面和设备数据群组管理系统
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8英寸
- 适用材料硅、碳化硅
- 适用工艺干氧氧化、湿氧氧化、DCE氧化、退火
- 适用领域集成电路、功率半导体、化合物半导体、科研领域
