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半导体装备 Semiconductor

TENESIS X308P

12英寸立式大产能中温氧化炉

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TENESIS X308P 12英寸立式大产能中温氧化炉
TENESIS X308P 12 Inch Vertical Large Batch Mid-Temp Oxidation Furnace
TENESIS X308P为立式单腔大产能炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化，该系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。
设备特点
  • 高精度温度场控制技术
  • 高稳定性工艺表现
  • 高智能化自我侦测系统
  • 大产能
产品应用
  • 晶圆尺寸
    12英寸
  • 适用材料
    硅
  • 适用工艺
    干氧氧化、湿氧氧化、DCE氧化
  • 适用领域
    集成电路
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