SES Series 8英寸多片硅外延系统
SES Series 8 Inch Batch Wafer Silicon Epitaxy System
- 设备特点
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- 适用于5-150微米范围的硅外延工艺
- 先进的感应加热和气流场技术提供了优良稳定的工艺性能
- 多片平板式设计，高容载量
- 自动化程度高、产能高、低运营成本
- 产品应用
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- 晶圆尺寸4、5、6、8英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺N&P硅外延
- 适用领域功率半导体、衬底材料、科研领域
